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真空電鍍（PVD）的基本原理
- 分類：行業新聞
- 作者：
- 來源：中國鋁業網
- 發布時間：2015-06-10
- 訪問量：
【概要描述】真空電鍍(PVD)的基本原理 惰性氣體或反應氣體電離為氣體離子，氣體離子因靶(所謂靶是IP電 鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動，轟擊固體靶材表面進行能量 交換，使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子，在電場加速運動下產生 物理氣象沉積(PVD)于所電鍍產品表面，形成電鍍層?！ VD表面處理特點是： 1、光澤度好 2、無鎳環?！ ?、延長基本壽命1~2年
真空電鍍（PVD）的基本原理
【概要描述】真空電鍍(PVD)的基本原理 惰性氣體或反應氣體電離為氣體離子，氣體離子因靶(所謂靶是IP電 鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動，轟擊固體靶材表面進行能量 交換，使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子，在電場加速運動下產生 物理氣象沉積(PVD)于所電鍍產品表面，形成電鍍層?！ VD表面處理特點是： 1、光澤度好 2、無鎳環?！ ?、延長基本壽命1~2年
- 分類：行業新聞
- 作者：
- 來源：中國鋁業網
- 發布時間：2015-06-10 02:24
- 訪問量：
真空電鍍(PVD)的基本原理
惰性氣體或反應氣體電離為氣體離子，氣體離子因靶(所謂靶是IP電
鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動，轟擊固體靶材表面進行能量
交換，使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子，在電場加速運動下產生
物理氣象沉積(PVD)于所電鍍產品表面，形成電鍍層。
PVD表面處理特點是：
1、光澤度好
2、無鎳環保
3、延長基本壽命1~2年
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